但这些条件只能在特定条件下使用。珠模机规范必须设计得正确,并特别参考分离器类型(gap/script)和其他旋转/静止元素容度(密封机、珠除虫机、研磨带限值等)。
产品粘度也是一个重要因素,因为小珠通常质量较低,转而在某些风学条件下可能导致珠速下降
研磨室内大多数横向/垂直机械方面不适合保持恒定珠速研磨区通常相距太远多数横向磨坊无法满足极小珠长期使用,因为最终机械拆解(嵌入分离器、密封房等)和分离阻塞此外,大多数珠粒磨坊以相当随机的方式生成必要的研磨动作,圆柱体必须打包大容量珠粒横向磨厂一般提供不稳定研磨媒体控制,因为媒体有向分离器/输出器持续移动的倾向垂直磨坊则有分布式珠包密度,底部重,顶部打火机轻媒体收费达70-90%高效分离产品和研磨介质至关重要,大量介质将导致高过程温度和压力、分离器损耗和磨坊磨损
扰动用盘或插件向珠群传播剪和减耗力,转而将部分能量移入研磨动作大部分这种能量都因摩擦热积聚而损耗,有必要加装高效冷却系统控制和管理此随机珠动作至关紧要,以便更有效地使用所消耗的能量
多数磨坊会及时产生散射粒子归次微域, 通常微量素材的大端仍为证据在上述条件下难以实现这些粒子的进一步缩放
微ronTM
考虑微子开发 特殊任务子微粒研磨一种错误概念,即研磨精细仅仅是时间函数,当我们考虑如何快速实现百分之百纳米粒子减值时。优先考虑用千兆瓦直径珠取代一毫米直径珠
接触率多次增高,因此,给定质量珠的研磨能力大增
实现一致纳米粒子大小,必须相应地具体说明磨机学
特别关注有效珠群控制
有效分离产品与媒体的能力
利用最小可用研磨介质(下至0.05毫米)。
媒体充电量不超过45%,从而在低温下实现100%纳米粒子减值
实现一致性子微粒大小,必须确保预混合滑动物理属性归到特定范围产品粘度和初始粒子大小应始终得到特别关注。初始前混合50微米可降为300纳米并持续下降最小传递操作有效可靠地分离产品和研磨介质离厂口
使用最小研磨介质大小, 并使用特定的研磨介质管理控制 和有效分离 磨剪操作中, 百分位微量粒子大粒子大小端完全清除
珠速由主振荡器设计最大化高速珠子仅短距离持续回收,形成双螺旋对流主扰动器外围和前后,精确引导珠子充电运动现阶段还实现分离离心力分离通过具体设计最大化,推介媒体和产品相应分离
媒体处于受控并持续交互双螺旋质中,离心切密度最大产品受一致性强打包珠矿场操作时这些条件不变产品只能从研磨厂通过强研磨区逃出
详情请发e-mailinfo@cdcrocentron.com或调用
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