Rohm and Haas电子材料公司将投资6000万美元用于尖端光刻设备，以支持其广泛研发先进的193纳米(nm)光刻胶和用于半导体器件制造的抗反射涂层。

“作为半导体行业领先的材料供应商，我们提供先进光刻材料的能力至关重要，特别是当行业向下移动到45nm节点以下时，”微电子技术事业部总监Dominic Yang博士说。2022世界杯八强水位分析“这项投资不仅将与内存、代工和逻辑领域的领跑者建立深入的技术合作关系，而且将为这些客户带来使用业界最佳工具制造和测试的高质量产品。”

作为投资的一部分，罗门哈斯电子材料公司将购买阿斯麦公司的TWINSCAN™XT: 1900Gi 193nm步进扫描系统。该工具，连同新的300毫米涂层/开发轨道和最先进的缺陷和测量设备，将于2008年第一季度安装。

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